Silicium-Halbleiter: In Pretzfeld wurde das Verfahren und die Anlagentechnik zur Herstellung von Reinst-Silicium entwickelt. Im Bild
Silicium-Halbleiter: In Pretzfeld wurde das Verfahren und die Anlagentechnik zur Herstellung von Reinst-Silicium entwickelt. Im Bild zu sehen die Zonenziehanlage VZA 2. ( Bild: Historisches Archiv Infineon )